Prêmio Parque Lage + AnnexB para Residência em Nova York
A Escola de Artes Visuais do Parque Lage, em parceria com a renomada AnnexB de Nova York, anuncia a tão aguardada abertura das inscrições para o Prêmio Parque Lage. Este concurso oferece a alunos e ex-alunos uma residência artística de dois meses na efervescente cena artística de Nova York, representando uma oportunidade excepcional para fotógrafos em busca de novos horizontes e experiências enriquecedoras.
Histórico e Compromisso com a Diversidade Artística
Decerto que além de ser uma vitrine para talentos emergentes, o Parque Lage tem um compromisso sólido com a promoção da diversidade na arte contemporânea. Destinado a artistas brasileiros, o concurso se destaca por fomentar intercâmbios culturais e proporcionar oportunidades significativas de crescimento artístico.
Participação e Cronograma Essenciais
As inscrições para o Prêmio Parque Lage estão abertas de 13 de fevereiro a 20 de março. O processo é acessível através do site da Escola de Artes Visuais do Parque Lage, onde os interessados podem preencher um formulário para concorrer a essa experiência. Ademais, as etapas seguintes incluem a convocatória, indicação dos selecionados, entrevistas, anúncio do vencedor e a residência, que ocorrerá de 10 de junho a 10 de agosto.
Requisitos e Elegibilidade
Portanto, para participar, é necessário ter sido aluno da Escola de Artes Visuais do Parque Lage entre 2018-2019. O Prêmio visa reconhecer e impulsionar artistas que passaram por essa instituição, destacando-se como uma oportunidade valiosa para consolidar uma presença no cenário internacional. Leia o edital completo da Bolsa e faça sua inscrição aqui.
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